石英ウェハは、結晶性二酸化ケイ素(SiO2)から作られています。これらのウェハは、石英の特性により、さまざまなハイテク産業で重要な素材として役立ちます。
石英ウェハは、高い熱抵抗性、特定の波長での優れた光透過性、化学的不活性、低い熱膨張係数など、優れた特性を備えており、これらの特性により極端な温度下での性能安定性、厳しい化学薬品に対する耐性、および特定のスペクトル範囲での光透過性が必要なアプリケーションに理想的とされています。
半導体製造、光学分野、MEMS(微小電子機械システム)などの産業では、石英ウェハの耐熱性、その変形せずにその特性を失わない能力から、さまざまな用途に使用されます。これらは薄膜を成膜するための基板や、微細構造をエッチングするための基板、または高精度および熱安定性を要求される正確な部品の製造に使用されます。
石英ウェハ
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石英ウェハ
石英ウェハは、結晶性二酸化ケイ素(SiO2)から作られています。これらのウェハは、石英の特性により、さまざまなハイテク産業で重要な素材として役立ちます。
石英ウェハは、高い熱抵抗性、特定の波長での優れた光透過性、化学的不活性、低い熱膨張係数など、優れた特性を備えており、これらの特性により極端な温度下での性能安定性、厳しい化学薬品に対する耐性、および特定のスペクトル範囲での光透過性が必要なアプリケーションに理想的とされています。
半導体製造、光学分野、MEMS(微小電子機械システム)などの産業では、石英ウェハの耐熱性、その変形せずにその特性を失わない能力から、さまざまな用途に使用されます。これらは薄膜を成膜するための基板や、微細構造をエッチングするための基板、または高精度および熱安定性を要求される正確な部品の製造に使用されます。
石英ウェハは、高い熱抵抗性、特定の波長での優れた光透過性、化学的不活性、低い熱膨張係数など、優れた特性を備えており、これらの特性により極端な温度下での性能安定性、厳しい化学薬品に対する耐性、および特定のスペクトル範囲での光透過性が必要なアプリケーションに理想的とされています。
半導体製造、光学分野、MEMS(微小電子機械システム)などの産業では、石英ウェハの耐熱性、その変形せずにその特性を失わない能力から、さまざまな用途に使用されます。これらは薄膜を成膜するための基板や、微細構造をエッチングするための基板、または高精度および熱安定性を要求される正確な部品の製造に使用されます。
石英ウェハの仕様
Diameter | 50mm, 76mm, 100mm, 125mm, 150mm | |
Specifications | Min | Max |
Thickness | 300um | 1100um |
Thickness Tolerance | ±25um | ±50um |
Angle cut | X cut / Y cut / Z cut /AT-cut 35.25° / ST cut 42.75° | |
Surface Finish | Single Side Polished, Double Side Polished | |
TTV | <15um | |
Surface Quality | 60/40 | |
Flat/Notch | SEMI Std. Flat, SEMI Std. Notch | |
Roughness | <10 Å | |
Lead-time (on average) | 8 to 10 weeks |